（原标题：钢研纳克：高通量（场发射）扫描电镜是扫描电镜技能的一个比较新的技能分支）

  同花顺（300033）金融研讨中心10月28日讯，有出资者向钢研纳克（300797）发问， 高通量（场发射）扫描电镜，成像速度可到达传统电镜的数十倍以上。以半导体范畴为例：半导体工艺线nm，工艺制程中的缺点查验测验也变的至关重要。半导体元器件进行失效剖析往往需求运用先进的物理、冶金及化学的剖析手法。扫描电镜分辨率比较高（纳米级），景深大还可以从几十倍到几千倍接连扩展，是半导体资料研讨和剖析的重要东西。请问这高通量电镜是真的这麽凶猛吗？

  公司答复表明，出资者您好，高通量（场发射）扫描电镜是扫描电镜技能的一个比较新的技能分支。最早应用在半导体产线上的电子束晶圆检测设备（EBI），从创造到现在已经在半导体产线中被成功应用于在线年。近些年渐渐开端被应用到非半导体范畴，如资料表征、生命科学的组织架构观测等等。尽管其有着比较大的速度优势，可是因为技能比较新，适用条件比较苛刻，在应用到其他范畴时也存在许多约束，需求继续的技能晋级与改善。感谢您的重视！

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